高纯金属铝颗粒 3*3mm电子束蒸镀芯片镀膜专用铝粒 蒂姆新材料
| Co-F3501 | 电解钴 片状 | 99.95% 1-10mm | 蒂姆新材料 | 真空熔炼 |
| Co-I3504 | 电积钴 块状 | 99.95% 40*40*5mm | 蒂姆新材料 | 真空熔炼 |
| Co-G3533 | 钴 颗粒 | 99.95% φ3*3mm | 蒂姆新材料 | 真空熔炼 |
| W-G3536 | 钨 颗粒 | 99.95% φ3*6mm | 蒂姆新材料 | 真空熔炼 |
| Ta-G3533 | 钽 颗粒 | 99.95% φ3*3mm | 蒂姆新材料 | 真空熔炼 |
| Nb-G3533 | 铌 颗粒 | 99.95% φ3*3mm | 蒂姆新材料 | 真空熔炼 |
| Mo-G3533 | 钼 颗粒 | 99.95% φ3*3mm | 蒂姆新材料 | 真空熔炼 |
| Si-I5011 | 多晶硅 块状 | 99.999% 不规则块状 | 蒂姆新材料 | 真空熔炼 |
| In-G4501 | 铟 颗粒 | 99.995% 1-3mm | 蒂姆新材料 | 真空熔炼 |
| Zr-I2402 | 海绵锆 块状 | 99.4% 3-25mm | 蒂姆新材料 | 真空熔炼 |
| Hf-I2402 | 海绵铪 块状 | 99.4% 3-25mm | 蒂姆新材料 | 真空熔炼 |
| Ge-G5006 | 锗 颗粒 | 99.999% 3-5mm | 蒂姆新材料 | 真空熔炼 |
| La-I3011 | 镧 块状 | 99.9% 不规则块状 | 蒂姆新材料 | 真空熔炼 |
一，物理性质
化学符号：Al 外 观：银白色
原 子 量：26.98154 a
蒸发温度：1220℃
密 度：2.7g/cm3
熔 点：660℃
沸 点：2467℃
汽化温度：1082℃
电 阻 率/μΩ?cm:2.66
电阻温度系数/℃-1:4.20×10-3
溶 解 于：，碱类
蒸发方式：钨丝或钼舟
蒸发源材料（丝、片）:W
坩 埚:BN、TiC/C、TiB2-BN
性 能：铝膜从紫外区到红外区具有平坦而且很高的反射率，铝膜对基地的附着力比较强，由于铝膜表面总是存在着一层透明的Al2O3薄膜的保护，所以铝膜的机械强度和化学稳定性都比较好。通常真 空蒸发制备的铝膜呈银灰色，但有时也呈黑色。蒸发源，基地为氧化硅薄膜（100nm厚），蒸镀铝料的纯度为99.999%。合金及相湿、钨多股绞合较好；加工性能好，可加工成任意形状；
应 用：保护膜，反射膜，增透膜
用 途：超纯铝用于制造光电子存储媒体；作为集成电路的配线；
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