nanoArch 240系列基于BMF摩方的技术⸺面投影微立体光刻技术（PµSL）构建。摩方PµSL是一种微米级精度的3D光刻技术，这一技术利用液态树脂在UV光照下的光聚合作用，使用滚刀快速涂层技术大大降低每层打印的时间，并通过打印平台三维移动逐层累积成型制作出复杂三维器件。

的薄膜滚刀涂层技术允许更高的打印速度，使打印速度提升10倍以上；
能够处理高达20000cps的高粘度树脂，从而生产出耐候性更强、功能更强大的零部件；

打印材料

通用型：丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA等、工业级复合聚合物，例如高粘度树脂、陶瓷浆料等

个性化：高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等

系统特点

• *的供料系统和涂层技术

• 具有微尺度多材料的打印能力

• 光学监控系统，自动对焦功能

• 配置光学平台，提高打印质量

• 优良的光源稳定性

• 配备完善的样品后处理组件，包括抽真空及紫外后固化