去胶工艺是微加工过程中一个重要的过程，在电子束曝光、紫外曝光等微纳米加工工艺后，都要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶是否去除干净、对样片是否有损伤等问题，将直接影响后续工艺的顺利完成。
上海沛沅仪器设备有限公司专业从事等离子体应用技术研究开发和相关设备、产品的生产，拥有一支经验丰富的融合了等离子体技术、电气自控技术、机械设计加工等多领域的精英团队，核心成员来自中科院应用物理研究所、中国科技大学、上海科技大学等科研机构。其自主研发的PLUTO-MD小型等离子去胶机使用性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精确控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、EMS/MOEMS、生物器件、LED等领域。
作为一家集等离子体技术设计、制造、产品开发、销售与服务于一体的技术型企业，上海沛沅仪器设备有限公司致力于提供专业的等离子表面处理系统，如等离子清洗机、等离子去胶机、等离子刻蚀机及实验室等离子处理机等，向用户提供国内优质的等离子表面处理设备和专业服务。 其PLUTO-MD小型
等离子去胶机具有以下显著特点：
桌面型，普通实验台即可安置。操作简便上手快、使用成本极低、易于维护。
适合于4~6寸硅片及相同面积去胶，可选配硅片专用托盘。
内置双层气浴电极，有效提高清洗效率。配有节流阀，防止真空泵油雾回流。可选配耐用电极，降低长时间使用后的腔体污染。
配置200W/13.56MHz等离子发生器，兼顾物理作用和化学作用。
具备前后吹扫功能，保证样品处理洁净度，可配置独立吹扫气路。
可选配电极间距可调，对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和表面改性。
展望未来，上海沛沅仪器设备有限公司继续坚持以自主研发为核心，致力于成为等离子体应用领域的优质供应企业，为微纳米加工领域的科研和产业化发展持续贡献力量。
