在微纳米加工的精密世界里，去胶工艺往往是决定成败的关键一环。无论是电子束曝光还是紫外曝光后，残留的光刻胶如果处理不当，极易损伤样片，导致后续工艺功亏一篑。今天，我们要介绍的这款PLUTO-MD(8L)小型等离子去胶机，正是解决这一痛点的“黑科技”产品。
核心技术：源自上海沛沅的专业解决方案
这款设备由
上海沛沅仪器设备有限公司倾力打造。作为一家集研发、生产、销售于一体的高新技术企业，上海沛沅不仅拥有专业的技术水平，更以其良好的售后服务和优质的解决方案在行业内著称。其推出的PLUTO-MD系列，正是为了满足实验室及小型生产线对高精度去胶的需求而设计。
产品亮点：为何它能成为实验室的“标配”
PLUTO-MD(8L)采用桌面型
等离子去胶机设计，普通实验台即可安置，极大地节省了空间。它操作简便，上手快，且使用成本极低，非常适合高校、研究所及企业的研发部门。
高效去胶：内置双层气浴电极，配合200W/13.56MHz的等离子发生器，能兼顾物理轰击与化学反应，有效提高清洗效率。
智能控制：设备配备了先进的工艺监测和数据采集软件，可对工艺参数进行精确控制，实现严格的质量追溯。
保护样品：具备前后吹扫功能，可配置独立吹扫气路，有效防止交叉污染，保证样品处理的洁净度。
广泛兼容：适合4~6寸硅片及相同面积的去胶处理，通过选配电极间距调节功能，可应对金属、陶瓷、玻璃、塑料等多种材质的表面超清洗和改性。
应用领域与服务承诺
目前，该技术已成功应用于功率晶体管、传感器、光学器件、LED及生物器件等多个前沿领域。上海沛沅仪器设备有限公司始终致力于为客户提供规格齐全、质量可靠的产品。如果您正在寻找一款性能出色的小型等离子去胶机，不妨联系上海沛沅，咨询此产品的具体参数及价格，获取专属的解决方案
