扫描 Kelvin Probe（开尔文探针）可以测量 CPD（接触电位差）值，评估半导体和导电材料的功函数。该技术起源于19世纪末，最早由英国科学家开尔文勋爵所提出，随着科学技术的不断进步，开尔文探针技术逐渐得到改进和*，应用领域也不断扩大。目前，开尔文探针技术已经成为表面科学、材料科学、微电子学等领域的重要研究手段。

适用研究范围

• 材料的功函数

• 费米能级的位置

• n 或 p 型半导体

• 半导体的能隙

• 表面电势

• 表面态密度

• 表面充放电效应

• 少数载流子扩散长度

• 温度和湿度对功函数的影响

• 更多特性

   

   

   

探针结构图

探头由Instytut Fotonowy设计制造，具有显著优势：即使在距样品 0.5 mm 的距离下，仍能获取强信号。这使得无论样品表面粗糙还是抛光，都能够稳定使用。同时，探头设计具备透光性，允许垂直光束照射样品。振荡由电磁铁驱动，以确保精准的测量。