日本日立 光谱仪

由于行业法规日益严格，供应链变得复杂以及更多地使 用废料作为基础材料，因此铸造厂和金属制造商必须将 杂质和痕量元素控制在*低ppm范围内。在过去，这一 级别的OES对许多企业而言是遥不可及。日立分析仪器 推出的新型OE750可改变这一现状。

日立的这款全新OES可用于分析所有主要合金元素，并 识别金属中含量极低的杂质、痕量元素和关心元素，如 钢中的氮。 OE750的测量速度快、可靠性高且运营成本 低，可进行高性价比的日常分析和全面质量控制，其性 能可与更大、更贵的光谱仪媲美。

德国制造的OE750的设计离不开日立45余年的金属行业 经验的支撑。从测量钢铁中的氮到铝中的磷 ，这款分析 仪可提供满足当今严格规范所需的全面金属分析。 日立分析仪器的OE750是可进行快速、全面的金属质量 分析的经济适用仪器，可满足一切需求。

日本日立 光谱仪

我们如何提高 性价比

这*取决于技术。

OE750采用**的半导体探测器和新型光学概念（四项*利 正在申请中）。这使得日立的OES光谱仪在同类产品中具有* 高光学分辨率，因此您不必在高性能和低成本之间作出选择。

动态CMOS检测器的创新使用以及将光学系统直接接合至火花 台可确保*佳照度以及119nm至766nm的波长范围。这包括 从氢到铀的所有元素，用于全元素分析*。这种性能通常只适 用于*端质量控制仪器，但OE750可通过创新、低氩和低功耗 降低成本。

OE750在元素选择上具有大大的灵活性，能使操作适合未来需 要。

*大可靠性和*短停 机时间

| OE750旨在保持运行不间断。其 维护时间被缩至小；例如，只 需每隔几千次测量*清理一次火花 台，标准化间隔通常是几周甚至几 个月。由此可实现每周节省2个小 时。

| 此外，新开发的数字火花光源将提 供更好的可靠性以及每个元素的* 佳能量激发脉冲，从而提高分析的 精密度。