纳米干涉形貌仪nanoprofilometer是采用微纳干涉显微镜部分相干光的干涉技术制造的纳米轮廓仪和纳米形貌仪,可定量测量微米尺度和纳米尺度表面形貌轮廓,并且几秒钟能够采集2百万数据点。
纳米干涉形貌仪采用部分相干光干涉技术,具有亚纳米精度,比传统形貌仪更为精密。
纳米干涉形貌仪提供了功能强大的非接触式光学表面形貌测试工具,可测量各种类型表面,包括光滑的,粗糙的,平整的,台阶表面和倾斜表面等。微纳表面形貌测试无损,快速并且不需要制样。
纳米干涉形貌仪可提供平整度,粗糙度,波纹度和台阶高度。
图1：纳米干涉形貌仪nanoprofilometer实物图
纳米干涉形貌仪nanoprofilometer主要优点：
Z轴分辨率：~30pm(原子smoth mirror，nanorelief模式）
~0,3um (microrelief模式）
相应快速
具有一定的隔振能力
测量过程自动化程度高
用户自定义界面
高质量软件界面良好展示3D测量结果
不同测量形貌可选配不同的显微镜种类
具有nanorelief模式和microrelief模式
三坐标定位样品
软件具有cross-linking功能,可测量大面积样品
*的软件功能存储和系统化测量结果
图2：纳米干涉形貌仪应用-Si衬底上Pd膜厚度,100nm膜层高度（Nanorelief模式）
图3：纳米干涉形貌仪应用-Si晶体表面台阶高度,0.314nm高（Nanorelief模式）
图4：纳米干涉形貌仪应用-沟槽测量,101 nm ± 3%（Nanorelief模式）
图5：纳米干涉形貌仪应用-沟槽深度,40 ± 1.2μm （Microrelief模式）
图6：纳米干涉形貌仪应用-衍射器件台阶高度测量,高度3.7μm （Microrelief模式）
纳米干涉形貌仪规格配置
光电探测器：1392x1040像素CCD
光源：630nm LED
微物镜：20X（或者选配10X和5X)
扫描装置：压电陶瓷扫描器件
位移台：Z轴行程50mm, XY行程75x50mm
控制器：包括位移台控制和整套控制器
软件：包含
纳米干涉形貌仪规格参数
测量面积：0.4mm x 0.3mm (20X物镜）
像素尺寸：0.3μm(20X物镜）
横向分辨率：等于或优于1μm
测量模式：Microrelief模式和Nanorelief模式
高度分辨率：~0.3μm（Microrelief模式）
~30pm (Nanorelief模式,带有自动smoth mirror下）
高度测量范围：50mm（Microrelief模式）
20um (Nanorelief模式,带有自动smoth mirror下）
测量速度： ~4μm/s（Microrelief模式）
~20μm/10s (Nanorelief模式,带有自动smoth mirror下）
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