等离子电浆抛光设备

本产品采用的抛光技术是一种*不同传统方法的新型抛光技术，称之为液态电浆抛光技术。此抛光技术是根据电化学原理与化学反应原理而研发设计的。是利用电解质成分、电解质水溶液浓度与温度、电压及电流密度对工件表面粗糙度、光泽度、反射率等表面特性的关联，而研发出操作的新型抛光技术。

电浆抛光（EDTM）机的主要特点: 

（1）根据工件尺寸的不同,可以使工件在几十秒至2分钟内达到近镜面的抛光效果,使后续处理十分方便; 

（2）在抛光过程中有效去除冲压件或其它制造件的边角毛刺; 

（3）抛光过程中使工件表面产生一层钝化膜,使其保持耐久光亮,增强抛光面的抗腐蚀性能; 

（4）抛光均匀程度优越,整个工件表面甚至于所有死角部位都可达到*的近镜面效果; 

（5）抛光过程由电参数控制,全过程采用进口PLC自动化控制,操作简单,维护方便; 

（6）生产效率高,生产成本低; 

（7）抛光过程不产生化学污染【低浓度药剂（95%~97%水+3%~5%的药剂,PH值约6.5~7）】.    

（8）清洁能力:EDTM系统不但定位为快速抛光机构之外,同时亦适合作为各种形状合金表面的去污、除脂、去氧化层、清洁残留杂质及化学药物,提供工件表面镀膜前的前置处理. 、

以上就是国华电子的等离子电浆抛光设备信息。