EVG®610 UV Nanoimprint Lithography System

EVG®610 紫外线纳米压印光刻系统

具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从小件到150毫米

技术数据

该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键合对齐和纳米压印光刻（NIL）。

EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其的多用户概念可以适应从初学者到级别的所有需求，因此使其非常适合大学和研发应用。

对于压印工艺，EVG610允许基板的范围从小芯片尺寸到直径150毫米。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括邮票的释放机制。EV Group卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的印记，该卡盘支持软性和硬性印模。

特征

顶侧和底侧对齐能力

对准台

自动楔形误差补偿机制

电动和配方控制的曝光间隙

支持新的UV-LED技术

小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念（数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

敏捷处理和光刻工艺之间的转换； 台式或带防震花岗岩台的单机版

附加功能：键对齐、红外对准、纳米压印光刻、µ接触印刷

技术数据

晶圆直径（基板尺寸）标准光刻：150毫米的碎片；柔软的UV-NIL：150毫米的碎片

解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程

柔软的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外线LED光源

自动分离：不支持；

工作印章制作：外部；