PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300 Pro
（PICOSUN™ ALD ALD P-300 Pro）
名称：原子层沉积系统 产地：芬兰
Picosun简介
Picosun是zui家公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计，并且不断发展以提。Picosun适应性强其客户包括zui 大的电子制造商，小型的型挑战者以及的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN®研发工具具有的内置可扩展性，可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，而不会出现技术差距。Picosun的热情在于。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，从而引ling行业发展时，Picosun是您的合作伙伴。
PICOSUN™ ALD P-300 Pro：Picosun™ 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™ P系列Pro和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作，也可以集成到PICOPLATFORM™300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN™的ALD系统有着紧凑、高效的设计。集成的机柜，装载着前驱体和电子元件，了快速简便的维护和zui短的停机时间。PICOSUN™ P系列工具了zui大产能以及zui节约的情况下得到的ALD工艺质量，并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。
工艺咨询和开发，产能提升，维护保养流程和系统及工艺的故障排除，我们客户化定制的PICOSUPPORT™综合解决方案24小时快速响应，随时待命。在购买之前，我们的演示服务了设备可以满足客户zui苛刻的产线需求。
技术指标
衬底尺寸和类型 | zui大300mm晶圆/单片 |
工艺温度 | 50 - 500 °C |
基片传送选件 | 半自动装载，用单片Load lock与磁力操纵杆实现 |
25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™ 300集群系统实现 | |
标准 | SEMI S2认证 |
前驱体 | 液态，固态，气态，臭氧源 |
等离子体（仅供200mm晶圆使用，zui多4路气体） | |
前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务 | |
6条独立源管线,zui多加载8个前驱体源（zui多12个前驱体源，加上plasma管路共7根独立源管线） | |
重量 | 820 kg |
尺寸(W x H x D) | 160 cm x 80 cm x 240 cm |
选件 | 集群工具，PICOFLOW™扩散增强，N2发生器，尾气处理，定制设计，与工厂软件连接服务。 |
验收标准 | 标准设备验收标准为Al2O3工艺， |
其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如： | |
--不均匀性 | |
--颗粒物含量 | |
--重金属污染 | |
--电学性能 |
应用领域
PICOSUN™ 300 mm 生产线应用案例
集成电路组件 | 微机电系统 |
氧化物间隔层 | 扩散阻挡层 |
间聚介质 | 涂层 |
高K栅介质 | 电荷耗散层 |
隧穿氧化物薄膜 | 导热层 |
氧化物阻挡层 | 导电种子层 |
钝化层 | 刻蚀阻挡层 |
间隙填充层 | 电绝缘层 |
覆盖层 | 防摩擦层 |
铜阻挡层和阻挡层 | 防粘着层 |
粘附层 | 光学薄膜 |
扩散阻挡层 | 生物兼容层 |
点极 | 密封层 |
金属化 | 纳米孔封堵层 |
其他 | 显示 |
晶体管 | 钝化 |
电容层 | 透明导电薄膜 |
存储器 | 绝缘层 |
读写磁头 |
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