EVG®610 BA Bond Alignment System
EVG®610BA 键对准系统
适用于学术界和工业研究的晶圆对晶圆对准的手动键对准系统
EVG610键合对准系统设计用于200 mm晶片尺寸的晶片间对准。EV Group的粘结对准系统可通过底侧显微镜提供手动对准平台。EVG的键对准系统的精度可满足MEMS生产和3D集成应用等新兴领域中苛刻的对准过程。
特征
适合EVG®501和EVG®510粘合系统
晶圆和基板尺寸为150/200 mm
手动对准台
手动底面显微镜
基于Windows®的用户界面;的多用户概念(数量的用户帐户,各种访问权限,不同的用户界面语言;桌面系统设计,占用空间小;支持红外对准过程;研发和中试生产线的总拥有(TCO);
EVG610 BA技术数据
常规系统配置:
桌面
系统机架:可选
隔振:被动
对准方法
背面对齐:±2 µm 3σ ; 透明对准:±1 µm 3σ
红外校准:选件
对准阶段
千分尺:手动; 可选:电动千分尺
楔形补偿:自动
基板/晶圆参数
尺寸:2英寸,3英寸,100毫米,150毫米,200毫米
厚度:毫米;
堆叠高度:10毫米
自动对齐:可选的;
处理系统
标准:2个卡带站
可选:多5个站
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