纳米压印光刻(NIL)
EVG是纳米压印光刻(NIL)设备和集成工艺的市场供应商。 EVG从15年前的研究方法中并掌握了NIL,并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300 mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。 NIL是产生纳米尺度分辨率图案的有前途且效益的工艺,可用于生物MEMS,微流体,电子学以及近各种衍射光学元件的各种商业应用。
UV-NIL /SmartNIL®系统
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纳米压印光刻(NIL)EVG是纳米压印光刻(NIL)设备和集成工艺的市场供应商
纳米压印光刻(NIL)
EVG是纳米压印光刻(NIL)设备和集成工艺的市场供应商。 EVG从15年前的研究方法中并掌握了NIL,并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300 mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。 NIL是产生纳米尺度分辨率图案的有前途且效益的工艺,可用于生物MEMS,微流体,电子学以及近各种衍射光学元件的各种商业应用。
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