量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800

量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800是可以对应单腔及多腔、重视拥有扩展性的刻蚀设备。

产品特性 / Product characteristics

除单腔之外，另可搭载有磁场ICP（ISM）或NLD等离子源、去胶腔体、CCP腔体等对应多种刻蚀工艺。

为实现制程再现性及安定性搭载了星型电极及各种调温技能。

拥有简便的维护构造，实现downtime短化，提供清洗、维护及人员训练服务等综合性的售后服务体制。

的半导体技术研究所会提供万全的工艺支持体制。

产品应用 / Product application

化合物（LED或LD、高频器件）或Power device（IGBT配線加工、SiC加工）。

金属配线或层间绝缘膜（树脂类）、门电极加工工艺

强电介质材料或贵金属刻蚀。

磁性体材料加工。