干法刻蚀设备 APIOS NE-950EX

对应LED量产的干法刻蚀设备｢NE-950EX｣相对我司以往设备实现了140%的生产力。是搭载了ICP高密度等离子源和爱发科独自开发的星型电极的干法刻蚀设备。

产品特性 / Product characteristics

4inch晶圆可放置7片同时处理，6inch晶圆可实现3片同时处理，小尺寸晶圆方面，2inch晶圆可实现29片、3英寸可对应12片同时处理。

搭载了在化合物半导体领域拥有600台以上出货实绩的有磁场ICP（ISM）高密度等离子源。

高生产性（比以前提高140%）。

为防止RF投入窗的污染待在了爱发科独自开发的星型电极。

Depo对策，实现了维护便利、长期稳定、高信赖性的硬件。

拥有丰富的工艺应用的干法刻蚀技术（GaN蓝宝石、各种metal、ITO、SiC、AlN、ZnO、4元系化合物半导体）。

丰富的可选机能。

产品应用 / Product application

对应LED的GaN、蓝宝石、各种金属、ITO等的干法刻蚀设备