等离子去胶机 IoN Wave 10E

IoN Wave 10E等离子去胶机是我们在微波等离子处理工艺中的新产品。该批次式晶圆灰化设备成本低廉、尺寸适中，特别适用于工厂、科研院所等领域。

IoN Wave 10E使用性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精确控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、MEMS/MOEMS、生物器件、LED等领域。

IoN Wave 10E占地面积小，安装和维护简单。依靠微波等离子技术，该设备在提供光刻胶高灰化速度的同时，的降低了产品暴露在静电放电（ESD）中。

规格参数

工作腔室

材质 石英

尺寸 248mm直径 x 397 mm长

腔门处直径 241mm

容积 19.2 升

工艺气体控制 最多至6路气体，MFC控制

基础压力 0.07 mbar (50 mTorr)

工艺压力 0.5 – 1.5 mbar (375 – 1125 mTorr)

抽真空时间 大约1分钟





微波发生器

频率 2.45 GHz

输出功率 1200W

供给需求

电源 220V，50 Hz，单相

工艺气体 输入压力1-2 Bar

压缩空气 4-6 Bar，流速 56 升/分钟 （间歇式）

吹扫气体 1.3-2.7 Bar，流速 28 升/分钟 （间歇式）

尺寸 宽/高/深 775 x 749 x 781 mm

重量 135 千克



可选配置

推拉门

石英舟支撑杆

温控板

1%精度的真空规

压力控制器

指示灯柱

条形码阅读器

工艺气体切换器

光谱终点检测器

法拉第桶（次级等离子体）

陶瓷腔室，耐化学腐蚀密封圈

打印机

油泵或干泵

功能性：

台式设计，占地面积小

石英腔室可容纳8寸的晶圆，最多同时装载25片6寸晶圆

使用Windows操作系统的工业计算机控制

符合Semi E95-1101要求的图形用户界面（GUI）

软件提供了不同的用户访问权限：操作员、工艺编写、维护

通过以太网进行远程工艺监测

机载诊断功能和报警记录

工艺编辑软件提供了快速灵活的步骤控制功能

液晶触摸屏（LCD）操作面板

基于在线网络的模拟、培训和支持程序

安装简单快捷



典型应用

去除光刻胶

晶圆打胶

湿法刻蚀前的晶圆清洁

去除SU-8

刻蚀钝化层

失效分析中的器件开封

清洁和表面活化

化学微量分析中的低温材料灰化

过滤器和滤膜的清洁