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当前位置:上海银雀电子科技发展有限公司>>电子产品制造设备>>其他电子产品制造设备>> EVG 纳米压印光刻(NIL)HERCULES®NIL 集成的SmartNIL®UV-NIL系统

HERCULES®NIL 集成的SmartNIL®UV-NIL系统

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参  考  价:面议
具体成交价以合同协议为准
  • 产品型号:EVG 纳米压印光刻(NIL)
  • 品牌:
  • 产品类别:其他电子产品制造设备
  • 所在地:
  • 信息完整度:
  • 样本:
  • 更新时间:2023-05-17 22:02:43
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产品简介

HERCULES® NIL FullyIntegratedSmartNIL® UV-NILSystemsHERCULES®NIL 集成的SmartNIL®UV-NIL系统 EVG的HERCULES®NIL产品系列:HERCULES®NIL集成的SmartNIL®UV-NIL系统

详情介绍

HERCULES® NIL Fully Integrated SmartNIL® UV-NIL Systems

HERCULES®NIL 集成的SmartNIL®UV-NIL系统

EVG的HERCULES®NIL产品系列

HERCULES®NIL集成的SmartNIL®UV-NIL系统,200 mm

HERCULES®NIL模块化和集成式SmartNIL®UV-NIL系统,300 mm

HERCULES®NIL集成的SmartNIL®UV-NIL系统,200 mm;集成的纳米压印光刻解决方案,适用于大批量生产,具有EVGSmartNIL®压印技术

HERCULES NIL是集成的UV纳米压印光刻跟踪解决方案,适用于200 mm的晶圆,是EVG的NIL产品组合的新成员。HERCULES NIL基于模块化平台,将EVGSmartNIL压印技术与清洁,抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤相结合。这将HERCULES NIL变成了“一站式服务",将裸露的晶圆装载到工具中,然后将经过处理的纳米结构晶圆退回。

为了优化工艺链,HERCULES NIL中包括多次使用的软邮票的制造,这是大批量生产的基石,不需要额外的压印邮票制造设备。作为一项特殊功能,该工具可以升级为具有ISO 3 *功能的微型环境,以确保的缺陷率和质量的原版复制。

通过为大批量生产提供NIL解决方案,HERCULES NIL增强了EVG在积NIL设备解决方案中的。 *根据ISO 14644

特征

批量生产小40 nm *或更小的结构

结合了预处理(清洁/涂覆/烘烤/冷却)和SmartNIL®

体积验证的压印技术,具有复制保真度

全自动压印和受控的低力分离,可程度地重复使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源,固化时间快

优化的模块化平台可实现高吞吐量

*分辨率取决于过程和模板



HERCULES®NIL模块化和集成式SmartNIL®UV-NIL系统,300 mm

包含EVGSmartNIL®技术的模块化平台,可支持AR / VR,3D传感器,光子和生物技术

生产应用

EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个集成的跟踪系统,在单个平台上将清洁,抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG的专有SmartNIL大面积纳米压印光刻(NIL)工艺结合在一起,用于直径为300 mm的晶片。这是个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统,可为客户提供的自由度来配置他们的系统,以地满足其生产需求,包括200 mm和300 mm晶圆的桥接功能。

HERCULES NIL 300 mm提供了市场上进的纳米压印功能,具有较低的力和保形压印,快速的高功率曝光和平滑的压模分离。该系统支持各种设备和应用程序的生产,包括用于增强/虚拟现实(AR / VR)头戴式耳机的光学设备,3D传感器,生物医学设备,纳米光子学和等离激元学。

特征

全自动UV-NIL压印和低力剥离:多300毫米的基材

模块化的平台,具有多达八个可交换过程模块(压印和预处理)

200毫米/ 300毫米桥接工具能力

全区域烙印覆盖

批量生产小40 nm或更小的结构

支持各种结构尺寸和形状,包括3D

适用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取决于过程和模板

技术数据

晶圆直径(基板尺寸)100至200毫米/ 200和300毫米

解析度≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:SmartNIL®

曝光源:大功率LED(i线)> 400 mW /cm²

对准:≤±3微米

自动分离:支持的

前处理:提供所有预处理模块

迷你环境和气候控制:可选的

工作印章制作:支持的


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