TRYMAX 等离子除胶机

型号：NEO系列

TRYMAX

Trymax目前拥有半自动、全自动系列设备供用户选择，目前已有上百台设备安装在世界各地，被地应用于MEMS微机电系统、微流体器件、SOI基片制造、封装、化合物半导体器件、功率器件和光电显示等领域。

NEO2400系列是Trymax半导体设备的NEO系列等离子灰化和蚀刻产品的新成员之一。

NEO 2400系统可配置任何现有的处理模块，并与直径达200mm的基板兼容。

•特征

-200mm晶圆尺寸/基板尺寸

-4个集成的SMIF索引器或4个开放式卡带站

-4轴双臂机器人用横臂搬运

-可选的冷却站和切口对准器

-2或4个处理室

-4种不同的处理室技术：

•下游微波（ GHz）

•RF偏压（ MHz）

•双源（微波，射频偏压）

•DCP（RF偏压，直接耦合等离子）

-的均匀性和可重复性

-机械吞吐量> 300wph

-紧凑的足迹

-非常低的拥有

-数字控制的Devicenet，以太网

-基于窗口的工业计算机

•应用程序

-阻挡条带

-Descum处理

-去除聚合物

-邮寄高剂量植入带

-氮化硅蚀刻应用

-MEMS应用程序

-的包装加工（PR，PI，BCB，PBO）