抗蚀剂处理系统
EVG100系列光刻胶处理系统在光刻胶涂层和显影的质量和灵活性方面建立了新的标准。EVG100系列的设计旨在提供的工艺变化，其模块化功能可提供旋涂和喷涂，显影，烘烤和冷却模块，以满足个性化生产需求。这些系统可处理各种材料，例如正性和负性抗蚀剂，聚酰亚胺，薄抗蚀剂层的双面涂层，高粘度抗蚀剂和边缘保护涂层。这些系统可以处理多种尺寸的基板，直径从2“到300 mm，矩形，正方形甚至不规则形状的基板，而无需或只需很短的加工时间。这使得可以在工业水平上开发新的设备或工艺。EVG不仅需要高度的灵活性，而且需要可控的和可重复的处理过程，并且在要求苛刻的应用中积累了多年的旋涂和喷涂经验，并将这些知识纳入EVG100系列中，从而可以利用我们的工艺知识来为客户提供支持。
EVG®101
的抗蚀剂处理系统
研发和小规模生产中的单晶圆抗蚀剂加工
EVG®105
烘烤模块
独立的EVG105烘焙模块专为软曝光或曝光后烘焙过程而设计
EVG®120
自动抗蚀剂处理系统
EVG120是一款紧凑，经济高效的系统，用于在洁净室空间有限的情况下启动生产
EVG®150
自动抗蚀剂处理系统
EVG150是一种全自动抗蚀剂处理系统，可保持涂覆/显影过程和高通量性能，支持直径为300 mm的晶片
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