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临时键合 晶圆键合系统适合研发和小批量生产 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG-03 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 28 凭借我们在设计和制造晶圆键合设备方面的丰富经验，EVG在制定晶圆键合行业标准方面广受认可对比
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临时键合分离机 焊线机/邦定机适合研发和小批量生产 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG-03 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 28 凭借我们在设计和制造晶圆键合设备方面的丰富经验，EVG在制定晶圆键合行业标准方面广受认可对比
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解键合 高精圆片键合高 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG-03 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 22 键合系统 粘接系统EVG的晶圆键合方法的引入将键合对准与键合步骤分离开来，立即掀起了市场对比
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光刻 EVG150抗蚀剂处理系统研发生产 参考价 ￥面议
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品牌 型号 光刻 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 30 抗蚀剂处理系统 EVG100系列光刻胶处理系统在光刻胶涂层和显影的质量和灵活性方面建立了新的标准对比
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KEKO CAM-H系列流延机 膜厚控制稳定、精度高、自带微分水平控制浆料罐 参考价 ￥面议
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品牌 型号 CAM-H 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 21 KEKO CAM-H系列流延机-大型CAM-H型流延机为KEKO公司面向端产品应用的流延机对比
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临时键合 多功能引线键合机品牌 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG-03 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 19 EVG半自动解键合设备临时键合分离机EVG805DBEVG805DB是一款半自动的解键合设备，用于将已加工完成的薄器件片从硅、蓝宝石或其它材料的承载片上分离对比
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ULVAC 研究开发用溅射设备 QAM系列 参考价 ￥面议
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品牌 型号 QAM 系列镀膜设备是一种用于研究开发的溅射镀膜机，可用于各种基板上的包括磁性材料薄膜、超晶格薄 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 19 ULVAC 研究开发用溅射设备 QAM系列QAM系列镀膜设备是一种用于研究开发的溅射镀膜机对比
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro 参考价 ￥面议
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品牌 型号 PICOSUN-原子层沉积系统ALD 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 19 PICOSUN原子层沉积系统ALDR-200 Pro（PICOSUN™ALDR-200S Pro）原子层沉积系统（ALDP-200） 名称：原子层沉积系统 产地：芬兰 Picosun简介Picosun是yi家公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）对比
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PECVD等离子沉积设备DEPOLAB 200 参考价 ￥面议
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品牌 型号 DEPOLAB 200 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 17 PECVD等离子沉积设备DEPOLAB200 效益高PECVD等离子体增强化学气相沉积设备Depolab200将平行板等离子体源设计与直接载片相结合对比
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低温键合 晶圆片键合机半自动工艺处理 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG-03 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 17 键合系统 粘接系统EVG的晶圆键合方法的引入将键合对准与键合步骤分离开来，立即掀起了市场对比
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半自动解键合设备 焊线机/邦定机品牌 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG-03 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 15 凭借我们在设计和制造晶圆键合设备方面的丰富经验，EVG在制定晶圆键合行业标准方面广受认可对比
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200系列 参考价 ￥面议
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品牌 型号 PICOSUN-原子层沉积系统ALD 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 11 PICOSUN原子层沉积系统ALDR-200系列（PICOSUN™ALDR-200） 名称：原子层沉积系统 产地：芬兰 Picosun简介Picosun是一家公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）对比
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ICP-RIE等离子刻蚀机SI 500 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SI 500 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 13 SENTECH SENTECH仪器（德国）有限公司是国际主流的半导体设备商，研发、制造和销售的薄膜测量仪器（反射仪、椭偏仪、光谱椭偏仪）和等离子工艺设备（等离子刻蚀机、等离子沉积系统、用户定制系统）对比
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-1000 Pro 参考价 ￥面议
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品牌 型号 PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300 Pro 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 13 PICOSUN原子层沉积系统ALDR-1000 Pro（PICOSUN™ALDALDP-1000Pro） 名称：原子层沉积系统 产地：芬兰 Picosun简介Picosun是一家公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）对比
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键合机 高精圆片键合适合研发和小批量生产 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG-03 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 11 键合系统 粘接系统EVG的晶圆键合方法的引入将键合对准与键合步骤分离开来，立即掀起了市场对比
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EVG纳米压印设备EVG510HE 自动化热压印程序 外置热压脱模和冷却台 紫外纳米压印可 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG510HE 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 12 EVG纳米压印设备之热压印EVG510HEEVG510HE是一款半自动的热压印设备，用于硬模压印和纳米印刷对比
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键合 多功能引线键合机适合研发和小批量生产 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG-03 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 10 键合系统 粘接系统EVG的晶圆键合方法的引入将键合对准与键合步骤分离开来，立即掀起了市场对比
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光刻设备、掩膜对准、科研设备供应 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG®610 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 8 EVG®610 紫外线纳米压印光刻系统 具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从小件到150毫米 技术数据该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准对比
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SENTECH 平行板式PECVD沉积系统-SI 500 PPD 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SI 500 PPD 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 10 SENTECH平行板式PECVD沉积系统-SI500PPDSENTECH仪器（德国）有限公司是国际主流的半导体设备商，研发、制造和销售的薄膜测量仪器（反射仪、椭偏仪、光谱椭偏仪）和等离子工艺设备（等离子刻蚀机、等离子沉积系统、用户定制系统）对比
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KEKO全自动叠片机SB系列 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SW-8MV 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 15 KEKO全自动叠片机SB系列 KEKO公司SB系列自动叠片机设计用于针对大尺寸电子元器件产品，如LTCC、HTCC、低层数的压电器件、片式电感对比
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自动掩模对准系统 IQAlignerNT掩模对准系统研发生产 参考价 ￥面议
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品牌 型号 自动掩模对准系统 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 12 光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动A手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；B半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行调谐；C自动：指的是从基板的上载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要对比
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光刻机 EVG610双面对准光刻研发生产 参考价 ￥面议
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品牌 型号 光刻机 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 13 光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动A手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；B半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行调谐；C自动：指的是从基板的上载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要对比
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PECVD 带预真空室的化学气相沉积设备 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SI 500D 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 14 PECVD 带预真空室的化学气相沉积设备SI500PPD 工艺灵活性PECVD沉积设备SI500PPD便于在从室温到350℃的温度范围内进行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的标准的化学气相沉积工艺对比
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CAMTEK 自动光学检验AOI设备 MEMS 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EagleT-I 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 10 公司概述Camtek是一个的开发商和制造商的半导体行业检验和计量设备对比
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KEKO陶瓷产品CAM-S系列流延机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 KEKO实验室型流延机CAM-L系列 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 7 KEKO陶瓷产品CAM-S系列流延机CAM-S系列流延机 CAM-S系列流延机设计用于陶瓷产品生产，整个工艺过程在一个不锈钢带上完成对比
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Activator150 SiC和GaN退火及石墨烯生长/小批晕生产用垂直炉管CLV200 参考价 ￥面议
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品牌 型号 Activator150 SiC和GaN退火及石墨烯生长/小批晕生产用垂直炉管CLV200 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 11 Activator150SiC和GaN退火及石墨烯生长centrothermActivator150高温炉生产线专为硅-碳化合物（SiC）或镓-氮化合物（GaN）设备的后植入烧结而设计开发对比
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SENTECH RIE反应离子刻蚀 SI 591 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SI 500D 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 12 RIE反应离子刻蚀SI591 反应离子刻蚀机SI591采用模块化设计，可满足III/V半导体和Si加工工艺领域的的灵活应用对比
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Trymax 半导体 光刻胶剥离及灰化设备 等离子去胶机 NEO200A系列 参考价 ￥面议
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品牌 型号 NEO2400 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 12 Trymax半导体光刻胶剥离及灰化设备等离子体去胶机NEO200系列 Trymax半导体设备NEO200系列等离子去胶机是目前世界上进的等离子体光刻胶剥离及灰化的设备对比
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TESCAN-肖特基场发射可变真空扫描电镜 MIRA 3 LMU 参考价 ￥面议
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品牌 型号 MIRA 3 LMU 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 12 TESCAN肖特基场发射可变真空扫描电镜MIRA3LMU公司介绍：TESCAN总部坐落在捷克共和国布尔诺市，作为范围内的科学仪器制造商，TESCAN专注于于研究、开发、制造扫描电子显微镜及其相关附件和特殊产品，为建立在扫描电子显微镜以及针对不同应用的相关系统解决方案领域内的品牌做出不懈努力对比
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EVG320 D2W 混合键合面和清洁系统 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG320 D2W 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 10 EVG320D2W 混合键合面和清洁系统EVG®320D2W AutomatedDiePreparationandActivat*tem EVG320D2W是一个高度灵活的平台，具有通用的硬件/软件界面，可与第三方选择和放置模具粘接系统实现无缝集成对比
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Permanent Bonding Systems 键合系统 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG晶圆键合 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 8 PermanentBondingSystems键合系统 粘接系统 EVG的晶圆键合方法的引入将键合对准与键合步骤分离开来，立即掀起了市场革命对比
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CAMTEK 自动光学检验AOI设备Fan-out 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EagleT-I 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 8 公司概述Camtek是一个的开发商和制造商的半导体行业检验和计量设备对比
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300高级版 参考价 ￥面议
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品牌 型号 PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300 Pro 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 7 PICOSUN原子层沉积系统ALDR-300高级版（PICOSUN™ALDP-300Advanced） 名称：原子层沉积系统 产地：芬兰 Picosun简介Picosun是yi家公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）对比
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EVG小批量半自动晶圆键合系统EVG520IS 吸盘设计 温度压力均匀 小批量生产 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG520IS 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 11 EVG小批量半自动晶圆键合系统EVG520ISEVG520IS是一款设计用于小批量生产的半自动晶圆键合系统， 硅片允许尺寸为200mm对比
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EVG半自动晶圆键合机EVG510阳极键合等 高真空度键合腔室 全自动工艺过程 参考价 ￥面议
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品牌 型号 111111 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 10 EVG半自动晶圆键合机EVG510阳极键合等EVG510是一款半自动晶圆键合系统，可以处理200mm的晶圆，非常适合于研发和小批量生产对比
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KEKO小型流延机CAM-C系列 参考价 ￥面议
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品牌 型号 KEKO实验室型流延机CAM-L系列 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 7 KEKO小型流延机CAM-C系列CAM-C系列流延机 KEKO公司CAM-C系列流延机设计面向较少资金投入的客户而设计的，提供了更高的自动化水平、更高的精度和紧凑型设计对比
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KEKO等静压机ILS 参考价 ￥面议
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品牌 型号 ILS-106 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 9 KEKO等静压机ILS 等静压机用于将叠片后的陶瓷栈压实，实现内部各层的紧密接触对比
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紫外压印 脱模处理设备品牌 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG510HE 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 8 EVG纳米压印设备之热压印EVG510HEEVG510HE是一款半自动的热压印设备，用于硬模压印和纳米印刷对比
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CAMTEK 自动光学检验 2D检测设备 EagleT-I 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EagleT-I 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 8 公司概述Camtek是一个的开发商和制造商的半导体行业检验和计量设备对比
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EVG®105 Bake Module 烘烤模块 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG®105 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 9 EVG®105 BakeModuleEVG®105 烘烤模块 独立的EVG®105烘焙模块专为软曝光或曝光后烘焙过程而设计对比
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等离子沉积设备SI 500 D 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SI 500D 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 8 等离子沉积设备SI500D 高密度等离子体SI500D具有的等离子体特性，如高密度，低离子能量和低压等离子沉积介质膜对比
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集成光刻光刻系统 科研研发生产 参考价 ￥面议
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品牌 型号 集成光刻光刻系统 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 13 EVG公司是一家致力于半导体制造设备的供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统对比
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低温键合 焊线机/邦定机适合研发和小批量生产 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG-03 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 14 键合系统 粘接系统EVG的晶圆键合方法的引入将键合对准与键合步骤分离开来，立即掀起了市场对比
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临时键合 多功能打线键合机半自动工艺处理 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG-03 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 15 键合系统 粘接系统EVG的晶圆键合方法的引入将键合对准与键合步骤分离开来，立即掀起了市场对比
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临时键合 多功能打线键合机适合高校使用 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG-03 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 9 键合系统 粘接系统EVG的晶圆键合方法的引入将键合对准与键合步骤分离开来，立即掀起了市场对比
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EVG低温键合机EVG810LT 用于Si-Si直接键合和SOI键合的预键合系统 阳极键合 参考价 ￥面议
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品牌 型号 810LT 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 11 EVG低温键合机EVG810LTEVG公司是世界上的基片键合设备制造商，其键合工艺被认定为MEMS领域的标准工艺对比
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EVG®610 掩模对准系统 Mask Alignment System 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG®610 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 11 EVG®610 MaskAlignmentSystemEVG®610 掩模对准系统 EVG®610是一款紧凑的多功能研发系统，可处理200mm以下的小基板片和晶圆对比
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紫外压印 EVG纳米压印设备品牌 参考价 ￥面议
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品牌 型号 EVG510HE 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 14 EVG纳米压印设备之热压印EVG510HEEVG510HE是一款半自动的热压印设备，用于硬模压印和纳米印刷对比
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对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700 参考价 ￥面议
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品牌 型号 蚀刻 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 16 对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700 对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线（NLD-neutralloopdischarge）等离子源的量产用干法刻蚀装置对比
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SENTECH ICP等离子沉积系统-SI 500D 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SI 500D 类型 其他电子产品制造设备 厂商性质 其他 更新时间 2023-05-18 浏览次数 15 SENTECHICP等离子沉积系统-SI500D SENTECH仪器（德国）有限公司是国际主流的半导体设备商，研发、制造和销售的薄膜测量仪器（反射仪、椭偏仪、光谱椭偏仪）和等离子工艺设备（等离子刻蚀机、等离子沉积系统、用户定制系统）对比
