IoN 100WB-40Q是我们推出的具有高性价比的真空等离子去胶设备。它来源于IoN 100-40Q，IoN 100WB-40Q延续了同样的品质保障，包括可选压力控制器、光谱终点检测器等丰富配置选择。

IoN 100WB-40Q配备了一个圆筒石英腔，特别适用于半导体、LED、MEMS等领域的光刻胶灰化、打残胶、氮化物刻蚀、表面清洁等应用的批次处理。

IoN 100 WB旨在满足客户的生产需求，着重于表面处理的多功能性和可控性。其*的性能提供了工艺控制、失效报警系统和数据采集软件。这使得该设备可满足半导体、LED、MEMS等领域严格的程序控制要求。IoN 100 WB结构紧凑，集成度高，采用射频（RF）频率激发等离子体。

规格参数
工作腔室材料 石英
腔门材质 铝（标配）
腔体尺寸 直径304 mm，深508mm

可处理晶圆尺寸 8"

处理量 50片6"

装料方式 手动
　　　　　　　

工艺气体
质量流量控制计 最多至6路气体
工艺压力 200-2000 mTorr(取决于真空泵和气体流量)
抽真空时间 大约1分钟 (取决于真空泵)

射频电源 风冷13.56MHz,600 瓦(标准配置)
供给需求电源　　　　　 220V 单相, 50Hz
工艺气体 输入压力 1-2 bar
吹扫气体 输入压力 1-2 bar
压缩空气 输入压力 4-6 bar

机体

● 独立的机体带有所有电源和气体接口
● 带有旋转垫脚的可转动机身



设备尺寸
标准尺寸 1067 x 737 x 1524 mm（宽/高/深，不含泵）
重量 约204千克（不含泵）

可选项

● 压力控制器
● 1%精度的真空规

● 石英腔门
● 指示灯柱
● 条形码阅读器
● 工艺气体切换器
● 光谱终点检测器

● 耐腐蚀性气体的MFC
● 1000 瓦13.56 MHz射频发生器
● 真空泵（油泵或干泵）